率升至30摄氏度，等待60分钟；
第二阶段，以30摄氏度每分钟的速率升至400摄氏度，等待3分钟；
第三阶段，以20摄氏度每分钟的速率升至520摄氏度，等待100分钟。
确认无误后，他长按启动键，启动程序。
升温程序需要跑一个多小时。
在此期间，许秋向学姐请教了真空系统的工作原理。
陈婉清讲解道：“机械泵，最多只能将舱内压强降至零点几帕，必须使用分子泵才能将压强降低至十的负五次方帕这个数量级，从而达到蒸镀实验所需的最低真空度要求。
分子泵只能在低压强下使用。所以在压强大于20帕时，采用超真空挡板阀，阻隔分子泵和蒸镀舱连接；当压力低于20帕时将其关闭，再使分子泵和蒸镀舱连通。
分子泵启动后，还需要较长的时间，才能使蒸镀舱内压强达到1E-5级别。
这个时间在半小时至一个半小时之间。
如果一个半小时过后仍无法达到这个真空度，通常有两种情况。
一种是体系气密性不好，比如在关舱门时，门缝处夹了一个塑料膜；
另一种是舱体内蒸镀残留物过多，需要清理。”
虽然系统里也有影像资料供许秋学习，但他觉得还是听学姐讲解更舒服一些。
而且两个人站一起一直不互动也蛮尴尬的。
……
一小时后。
真空计示数达到-5帕，升温程序也进入第二阶段，一切正常。
十二分钟后。
温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在-至埃每秒之间波动，膜厚显示仍为埃。
三分钟后。
温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在至埃每秒之间波动。
当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在至埃每秒。
许秋先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。
钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。
待膜厚仪示数达到100埃时，许秋迅速关闭样品挡板。
随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。
最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。
半小时后。
束源炉的温度降低至77摄氏度。
许秋关闭钙的束源炉挡板，打开电流加热装置。
这个加热装置很简单，就是把电源、钨篓、电位器（类似于滑动变阻器）、保险丝、电流计连在一起，通过调节电位器，便可以改变电路中的电流大小。
许秋缓慢扭动电位器的旋钮，使电流计示数从0逐渐增加至18安培。
当电流达到16安培时，膜厚仪上蒸镀速率开始有了示数。
电流达到18安培后，许秋等待了几秒，然后同时打开样品挡板并清零膜厚仪的膜厚计数器。
蒸镀速率则先是从、迅
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